お知らせ

1月20日(火)～22日(木)にThe Moscone Center(米国カリフォルニア州サンフランシスコ )にて開催される
『SPIE Photonics West Exhibition 2026』に出展する運びとなりましたのでお知らせいたします。
皆様のお越しを心よりお待ちしております。

開催日時：2026年 1月20日(火) 10:00-17:00 PST
1月21日(水) 10:00-17:00 PST
1月22日(木) 10:00-16:00 PST

開催場所：The Moscone Center(米国カリフォルニア州サンフランシスコ)
弊社ブース：＃1360
展示会公式サイト：SPIE Photonics West Exhibition: 20 – 22 January 2026
弊社出展企業ページ：Nalux Co., Ltd. : SPIE Photonics West 2026 Exhibition

注目出展内容
・メタサーフェス（波長分離素子,遠赤外線カメラ）
・ステレオ内視鏡
・流光棒
・樹脂射出成形AR導光板
・SCOI
・微細加工素子（ARS,撥水,VBG(Volume Binary Grating)）
・高精度ガラス素子、Fiber Array
・樹脂光学部品（内視鏡レンズモジュール、MLA diffuser、光通信コネクタ）
・光学設計受託サービス
その他弊社の最新製品、技術の展示を行います

また同時開催のカンファレンスでは弊社社員より口頭発表及びポスター発表を行います。
こちらもぜひご参加のほどよろしくお願いいたします。

〈口頭発表〉
開催日時：2026年 1月21日（水）9:20～9:40 PST
タイトル：A simplified guided-mode-resonant wavelength filter with ultra-low aspect ratio for polarization-insensitive performance at 45-degree incidence
発表詳細：A simplified guided-mode-resonant wavelength filter with ultra-low aspect ratio for polarization-insensitive performance at 45-degree incidence | SPIE Photonics West

〈ポスター発表〉
開催日時：2026年 1月18日（日）17:30～18:30 PST
タイトル： Enhancing ophthalmic surgical visibility under low dye staining by spectral characteristics optimized imaging
発表詳細：Enhancing ophthalmic surgical visibility under low dye staining by spectral characteristics optimized imaging | SPIE Photonics West

期間中会場での打ち合わせや製品の問い合わせに関しては
以下にてご連絡を受け付けております。
お問い合わせ｜ナルックス株式会社
皆様のお越しをお待ちしております。